[بررسی] خواص الکترونی صفحه برون نیتریدی در حضور ناخالصی

امروزه سیستم های تک لایه ای بسیاری شناخته شده ومورد مطالعه قرار گرفته اند، از جمله:گرافن(یک لایه از گرافیت)، برون ن نیترید شش ضلعی (h-bn)، بورن کربید، مولیبدیم دی سولفید، سدیم کلراید، آلومینیوم دی سولفایدو... . برای پیشرفت در نانو تکنولوژی آشنایی با سیستم ی تک لایه ای خنثی که در شرایط محیطی مختلف تمیز باقی می مانند و با بالا رفتن درجه حرارت پایداری خود را حفظ می کنند لازم است. در این زمینه گرافین و برون نیترید شش ضلعی مثال هایی برجسته اند. برون نیترید بر خلاف گرافین که یک رسانا است در حالت عادی در ساختار نواری خود دارای گافی به اندازه ی ev7/4 بین تراز رسانش و ظرفیت خود می باشد که این ماده را تبدیل به یک عایق با گاف نسبتا بزرگ کرده است. در این پژوهش سعی شده است به کمک محاسبات شبیه سازی خواص الکترونی صفحه ی برون نیتریدی در حضور ناخالصی بررسی شود. بدین منظور اکسیژن به عنوان ناخالصی در نظر گرفته شد و اما در ادامه به جهت گسترش کار این صفحه به همراه ناخالصی خود تحت کرنش های مختلف شامل 30?کشش و 30? تراکم قرار گرفت. در نهایت برای مقایسه، کار با اعمال کرنش های مشابه بر روی صفحه برون نیتریدی بدون ناخالصی ادامه یافت و خواص الکترونی در هر سه حالت مورد مطالعه قرار گرفت. محاسبات در این پروژه به کمک نرم افزار quntaum espresso انجام شده است.